UHV-Clustertool

UHV-Hybridanlage mit den Modulen

• Beschichtungskammer für Puls-Laser-Deposition (PLD)
• Kammer für Magnetron-Sputter-Deposition (MSD)
• zentrales Handlingsystem
• Probenschleuse
• Probenmagazin

Technische Daten

Allgemein

• Vakuum: p < 2·10^-8 mbar
• Substrate: Ø = 150 mm, m = 5 kg
• Targets: 4 Stück in beiden Kammern
• Run-to-run-Reproduzierbarkeit der Schichtdicke:  99,8 %

PLD

• Ablationslaser: gütegeschalteter Nd:YAG mit den Wellenlängen λ = 1064 nm, 532 nm, 355 nm und  Pulslängen τ = 4 ... 10 ns

MSD

• Sputtermodi: DC und RF
• typischer Arbeitsdruck: p_{A r} ≥ 7 ·10^-4 mbar
• Target-Substrat-Abstand: 50 ... 100 mm

Typische Schichteigenschaften

• Schichtdicken: 0,2 ... 500 nm
• extrem geringe Rauigkeiten im Bereich von 0,15 ... 0,3 nm
• Homogenität: 99,5 - 99,9 % über 150 mm

Ausgewählte Ergebnisse

• MSD: Mo/Si-Multischichten mit EUV-Reflexionsgraden von 70 % (Wellenlänge λ = 13,5 nm, Einfallswinkel α = 1,5 °)
• PLD: Ni/C-Multischichten mit d_P = 3,25 nm und R_Cu-Kα = 73 %