Anlage zur Puls-Laser-Deposition (PLD) von Nanometer-Multischichten auf Großflächen
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Anlage zur Puls-Laser-Deposition (PLD) von Nanometer-Multischichten auf Großflächen
![Schematische Darstellung der Target-Substrat-Anordnung zur großflächig homogenen Beschichtung Schematische Darstellung der Target-Substrat-Anordnung zur großflächig homogenen Beschichtung](/de/technologiefelder/pvd_nanotechnik/roentgen_euv-optik/ausstattung/pld-anlage/jcr:content/contentPar/sectioncomponent/sectionParsys/textblockwithpics/imageComponent2/image.img.gif/1646402377386/pld-schema-400x400.gif)
Schematische Darstellung der Target-Substrat-Anordnung zur großflächig homogenen Beschichtung
Aufbau
- patentiertes Target-Substrat-Bewegungsregime zur Abscheidung homogener Schichten auf großen Flächen
- UHV-Bauweise zur Herstellung hochreiner Schichten
- Integration einer Vakuumschleuse für schnellen Probenwechsel
Einsatzgebiete
- Abscheidung von atomar glatten und präzisen Nanometer-Einzel und Multischichten (homogen oder mit gezielten Schichtdickengradienten)
- Abscheidung von Substratglättungsschichten
Technische Daten
- Vakuum: p < 2·10-8 mbar
- Substrate: Ø = 100 mm
- Targets: 4 Stück, zylindrisch
- Run-to-run-Reproduzierbarkeit der Schichtdicke: 99,8 %
- Ablationslaser: gütegeschalteter Nd:YAG mit den Wellenlängen λ = 1064 nm, 532 nm, 355 nm und Pulslängen τ = 4 ... 10 ns