Innerhalb des vom Bundesministerium für Bildung und Forschung geförderten Verbundprojektes „EUV-Projektionsoptik für 14-Nanometer-Auflösung (ETIK)“ erreichte das Fraunhofer IWS signifikante Fortschritte bei der Erforschung von Reflexionsschichten für extrem ultraviolette (EUV) Strahlung. Das herausragende Resultat ist ein neuer Weltrekord beim Reflexionsgrad, der direkt zu einer Erhöhung der Produktivität von EUV-Lithografiesystemen führt. Darüber hinaus konnten weitere Eigenschaften der Schichten deutlich verbessert werden, die EUV-Spiegel für höhere numerische Aperturen bei gleichzeitig verringerter Streustrahlung ermöglichen.
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