Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWSSputtertechnologie zur Abscheidung von Nanometer-Multischichten
Gemeinsam mit dem Kooperationspartner scia Systems GmbH wurde im Jahr 2015 eine Sputteranlage zur Großflächenbeschichtung aufgebaut und an einen Industriekunden überführt. Die Anlage ermöglicht eine besonders effektive großflächige Abscheidung von höchstpräzisen Nanometer-Multischichten, die für einen Einsatz als optische Elemente im Röntgen-Bereich verwendet werden.