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Das Fraunhofer IWS hat ein neues Verfahren zur chemischen Dampfphasenabscheidung (AP-CVD) von Oxid-Schichten bei Atmosphärendruck und niedriger Temperatur entwickelt. Es ermöglicht eine kontinuierliche Großflächenbeschichtung von Bändern ebenso wie von ebenen Blechen oder Platten mit photokatalytisch aktiven Titandioxidschichten. Die Schichten können homogen in Schichtdicken zwischen 30 und 1200 nm aufgetragen werden. Vor allem durch die Herabsetzung der Substrattemperatur auf bis 100 °C sind photokatalytische und superhydrophile Eigenschaften nun auch auf temperatursensitiven Materialien wie Polymerfolien umsetzbar.
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